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반도체 공정& 소자/Deposition6

Thin Film 보호되어 있는 글 입니다. 2024. 2. 6.
Epitaxial graphene growth on silicon carbide (SiC) 참고문헌 [1] Epitaxial graphene growth on silicon carbide, Wikipedia 이번 과제에서 substrate가 SiC위에 graphene을 MBE 성장시킨 기판이길래 정리하고자 합니다. Thermal deposition을 통해 SiC위에 그래핀을 성장시키는 방법은 large-scale few-layer graphene (FLG)를 만드는데 사용된다. 그래핀은 전도유망한 나노물질 중 하나로, 이는 그래핀의 강력한 stiffness, 그리고 전기전도성, 열 전도도 때문이다. 아직, 그래핀의 복제 가능한 생성은 어려운 형편이며, 수많은 방법들이 개발됐다. 다른 여러 기술들과 비교했을때 SiC위에 epitaxial 그래핀을 성장시키는 것의 주요 이점은 그래핀 layer를 .. 2023. 6. 26.
Conformality Conformality → ALD >> PECVD >> Sputter >>> Evaporation Transport of reactants to the substrate Case 1: direct $\left( S_c=1\right)$ Case 2: re-emission $\left( S_c 2023. 5. 16.
ALD (Atomic Layer Deposition) ALD (Atomic Layer Deposition)은 서로 다른 2개의 precursor를 사용하여 적층하는 공정이다 precursor1이 한층 쌓이면, 그 층 위에 precurosr1은 더 이상 적층되지 않고 precursor2가 한층 쌓인다. 이때 해당 층 위에는 더 이상 precursor2가 적층되지 않고, 다시 precursor1이 적층이 되는데, 이 과정이 계속 반복되어 적층이 이루어진다. 예를 들어 다음의 과정을 본다. 여기서 CH4는 byproduct이다. ALD는 한 싸이클당 1옴스트롱(한층)이 적층되는 공정이므로 매우 낮은 throughput을 가진다. 하지만 이하의 장점 떄문에 사용된다. 단차피복(Step Coverage)이 좋다. Digital Thickness control to .. 2023. 5. 4.
Chemical Vapor Deposition Types of CVD Properties Advantages Disadvantages APCVD - 76~760 Torr - Chemical raction by thermal energy - Used in SiO2 deposition - Coldwall Reactor - Low temperature - Simple reactor - Fast Deposition Rate (70nm/min) - Poor step coverage - 다량의 Carrier gas waste - Particle Contamination - Low throughput (cause of wafer loading) - Frequent Cleaning Required LPCVD - Low pressure (0.25~2Torr) - 1.. 2023. 5. 4.
DIBL (Drain-induced Barrier Lowering) DIBL은 Source와 Drain사이에 원치않은 전기적 상호작용이 발생하는 것을 뜻한다. DIBL이 발생할 수 있는 요소는 크게 3가지로 나눌 수 있다 MOSFET이 제대로 Scaling down 되지 않음 Drain/Source Junction이 너무 깊음 Channel Doping이 너무 낮음 이 DIBL은 다음의 상황을 야기한다. Punch-through Leakage (* Punch-through: Source와 Drain의 공핍영역이 서로 만나는 현상) Source/Drain 사이의 Breakdown Loss of Gate Control DIBL is caused by the lowering of the source-junction potential barrier below the built-.. 2021. 5. 18.