E-Beam Lithography2 Sensitivity, Contrast 1. IntroductionLithography를 공부하다 보면 헷갈리는 두 가지 용어가 등장합니다. 바로 Sensitivity와 Contrast 입니다. 이 두 개념을 정확히 이해하면 패턴 형성 조건을 잡는 데 상당히 도움이 됩니다. 아래 그래프는 positive resist 기준으로, electron dose에 따른 레지스트의 remaining thickness 변화를 나타낸 것이다. 이상적인 경우라면 특정 임계 dose를 기준으로 resist가 전혀 제거되지 않거나, 반대로 완전히 제거되는 step function (검은색 선)형태가 될 것입니다. 즉, resist가 전혀 변하지 않는 최대 dose = $D_{1}$ 값과 resist가 완전히 사라지는 최소 dose = $D_{2}$ 값이 서로 같.. 2023. 5. 16. Introduction to Electron Beam Lithography (EBL) 참고문헌[1] Encyclopedia of Nanotechnolgy[2] Nanofabrication Using Electron Beam Lithography: Novel Resist and Applications, Arwa Abbas[3] UC Berkeley Marvell Nanofabrication Laboratory[4] Process Optimization on Raith-150 TWO E-Beam Lithography Tool for sub-100nm CMOS device fabrication0. Definition나노 소자를 제작하는 방식은 크게 Bottom-up과 Top-down 두 가지로 나뉩니다. Bottom-up은 나노입자의 화학적 합성이나 자기조립(self-assembly)을 활용하.. 2021. 8. 25. 이전 1 다음
