E-Beam Lithography2 Sensitivity, Contrast 1. Sensitivity, Contrast Lithography를 학습 하다보면 헷갈리는 용어 두개가 등장한다. 바로 Sensitivity와 Contrast이다. 이를 구분할 수 있으면 패턴을 만드는데 큰 도움이 될 것이다. 우선 아래의 그림을 한번 보자. 위 그림은 positive PR(또는 ER)을 기준으로 그린 것으로, PR(또는 ER)에 입사되는 전자의 dose에 따라 thickness의 변화를 보여준느 그래프이다. 이상적인 경우(검은색 선)는 당연 특정 임계값을 경계로 resist가 모두 사라지거나, 하나도 사라지지 않는, 즉 step function과 같은 양상을 보이는 경우일 것이다. (이때는 PR이 변형되지 않고 그대로 남아있는 Dose의 최대값 $D_{1}$과, PR(또는 ER)이 모두.. 2023. 5. 16. Introduction to Electron Beam Lithography (EBL) 참고문헌[1] Encyclopedia of Nanotechnolgy[2] Nanofabrication Using Electron Beam Lithography: Novel Resist and Applications, Arwa Abbas[3] UC Berkeley Marvell Nanofabrication Laboratory[4] Process Optimization on Raith-150 TWO E-Beam Lithography Tool for sub-100nm CMOS device fabrication 0. DefinitionEBL은 패터닝을 하는데 있어 기존의 포토리소그래피 처럼 광자를 사용하는 것이 아니라, 전자를 사용하는 기법이다. EBL은 포토리소그래피와 여러면에서 유사점을 갖고 있으며, 아래.. 2021. 8. 25. 이전 1 다음
