Photolithography1 Photolithography (노광공정) 노광공정은 크게 다음의 과정을 합친것을 총칭한다. Cleaning wafers → Depositing barrier layer → Coating with photoresist → Soft baking → Aligning masks → Exposing pattern → Developing photoresists → Hard baking → Etching → Removing photoreists(Developing) 이 과정을 하나씩 살펴본다. 1. Cleaning wafers 기본적으로 Hydrofluoric acid(불산), 혹은 DI Water(증류수)를 이용하여 세척한다. 2. Depositing barrier layer SiO2, Si3N4, metal, polysilicon, photoresist.. 2021. 5. 18. 이전 1 다음