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반도체 공정& 소자/기기, 장비, 용액, 측정

Photoresist (PR) & E-beam resist (ER)

by 도른자(spinor) 2021. 6. 28.
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Positive PR

Negative PR
-

 

Positive ER
-

Negative ER
- HSQ

 

해당 게시글은 AZ9260 Photoresist 게시글을 바탕으로 작성되었습니다.

 

 

해당 게시글은 Merck사의 AZ P400 Series Datasheet를 기반으로 작성되었습니다.

Thickness Grades

 - AZ P4110 : 1.03.0μm
 - AZ P4210 : 2.04.0μm
 - AZ P4330-RS : 3.05.0μm
 - AZ P4400 : 4.06.0μm
 - AZ P4620 : 6.020μm
 - AZ P4903 : 10.0>30μm

 

Typical Spin Curves

Note: Thick films will be coated by varying spin times and other dispense parameters (or via mutiple coats). Single films above 7.0μm are not spun to equilibrium.

 

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