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반도체 공정& 소자/기기, 장비, 용액, 측정

Photoresist (PR) & E-beam resist (ER)

by 도른자(spinor) 2021. 6. 28.
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Positive PR

Negative PR
-

 

Positive ER
-

Negative ER
- HSQ

 

해당 게시글은 AZ9260 Photoresist 게시글을 바탕으로 작성되었습니다.

 

 

해당 게시글은 Merck사의 AZ P400 Series Datasheet를 기반으로 작성되었습니다.

Thickness Grades

 - AZ P4110 : $ 1.0-3.0 \mu m $
 - AZ P4210 : $ 2.0-4.0 \mu m $
 - AZ P4330-RS : $ 3.0-5.0 \mu m $
 - AZ P4400 : $ 4.0-6.0 \mu m $
 - AZ P4620 : $ 6.0-20 \mu m $
 - AZ P4903 : $ 10.0- >30 \mu m $

 

Typical Spin Curves

Note: Thick films will be coated by varying spin times and other dispense parameters (or via mutiple coats). Single films above 7.0$\mu m$ are not spun to equilibrium.

 

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