728x90
E-beam 으로 그릴 때, E-beam defraction 이용시 gun이나 stage를 움직이지 않고 patterning이 가능하다.
이때 stage를 움직이지 않았을때 한번에 그릴 수 있는 최대 영역을 writefield라 한다.
각 경우에 따른 패턴의 결과는 아래와 같다.
728x90
'반도체 공정& 소자 > Lithography' 카테고리의 다른 글
| Sensitivity, Contrast (0) | 2023.05.16 |
|---|---|
| Proximity effect (0) | 2023.05.16 |
| Photolithography (노광공정) (0) | 2021.05.18 |
댓글