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E-beam 으로 그릴 때, E-beam defraction 이용시 gun이나 stage를 움직이지 않고 patterning이 가능하다.
이때 stage를 움직이지 않았을때 한번에 그릴 수 있는 최대 영역을 writefield라 한다.
각 경우에 따른 패턴의 결과는 아래와 같다.
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