LRCX1 EUV 리소그래피의 마지막 병목, 그리고 Lam Research의 해법 1. EUV 시대, 왜 레지스트가 문제가 되는가?EUV 리소그래피는 13.5nm 파장의 빛을 사용해 그동안 불가능했던 미세 패턴을 구현할 수 있게 해주었다. 그러나 노광 장비(ASML의 EUV 스캐너)가 발전할수록, 정작 그 빛을 받아 패턴을 형성하는 레지스트가 병목으로 떠올랐다. 40년 넘게 업계를 지배해온 화학 증폭형 레지스트(CAR, Chemical Amplification Resist)는 DUV 시대에는 훌륭하게 작동했다. 빛이 광산 발생제(PAG)를 활성화해 산을 만들고, 이 산이 촉매처럼 작용해 하나의 광자로 여러 화학 반응을 증폭시키는 방식이다. 문제는 EUV로 넘어오면서 이 "증폭"이라는 핵심 메커니즘 자체가 한계로 작용하기 시작했다는 점이다.2. CAR가 EUV에 부딪히는 세 가지 벽2... 2026. 6. 12. 이전 1 다음